磁控濺射膜常見故障的排除（chú）

膜層灰暗及（jí）發黑

(1)真空度低於（yú） 0.67Pa。應將真空度（dù）提高到 0.13-0.4Pa。

(2)氬氣純度低於 99．9％。應換用（yòng）純度為（wéi） 99．99％的氬氣（qì）。

(3)充氣係統漏氣（qì）。應檢查充氣係統，排（pái）除漏氣現象。

(4)底漆未充分固化。應適當延長底漆的固化時間。

(5)鍍件放氣量太大。應（yīng）進（jìn）行幹燥和封孔處理 膜層表麵光澤暗淡

(1)底漆固化不良或變質。應適（shì）當延長底漆的固化時間或更換底漆。

(2)濺射時間太長。應適（shì）當縮短。

(3)濺射成（chéng）膜速度（dù）太快。應適當降（jiàng）低濺射電流或電壓

膜（mó）層（céng）色澤不均

(1)底（dǐ）漆噴塗（tú）得（dé）不均勻。應改進底漆的施塗方法。

(2)膜（mó）層太薄。應適當提高濺射速度或延長濺射時間。

(3)夾具設計不合理。應改進夾具設計。

(4)鍍件的幾何（hé）形（xíng）狀太複雜。應適當提高鍍件的旋轉速度

膜層發皺、龜（guī）裂

(1)底漆噴塗得太厚。應控製在 7—lOtan 厚度範圍內。

(2)塗（tú）料的粘度（dù）太高（gāo）。應適當降低。

(3)蒸發速度太快。應（yīng）適當減慢。

(4)膜層太厚。應適當縮（suō）短濺射時間（jiān）。

(5)鍍件溫度太高。應適當縮短對鍍件的加溫時（shí）間

膜層表（biǎo）麵有水跡、指紋及灰粒

(1)鍍件清（qīng）洗後未充分幹燥。應加強鍍（dù）前處理。

(2)鍍件（jiàn）表麵濺上水珠或唾液。應加強（qiáng）文明生產，操作者（zhě）應帶口罩。

(3)塗（tú）底漆後手接觸過鍍件，表麵留下指紋。應嚴禁用手接觸鍍（dù）件表麵。

(4)塗料（liào）中有顆粒物。應過濾塗料或更換塗料。

(5)靜電除（chú）塵失效或噴塗和固化（huà）環境中有顆（kē）粒灰塵。應更換除（chú）塵器，並保持（chí）工作環境的清潔

膜層附著力不良

(1)鍍件除油（yóu）脫脂不徹底。應加強鍍前處理。

(2)真空室內不清潔。應清洗真空室。值得注意的是，在裝靶和拆靶的過程中，嚴禁用手 或不幹淨的物體與磁控源接觸，以保證磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結合力的（de） 要措施之一。

(3)夾具不清潔。應清洗夾具。

(4)底塗料選用不當。應更換塗料。

(5)濺射工藝條件控製不當。應改進濺射工藝條件