離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或（huò）被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在（zài）基片上。離子（zǐ）鍍把輝光放（fàng）電現象、等（děng）離子體技術和（hé）真空蒸發三者有機結合（hé）起來，不僅能明顯地（dì）改進了（le）膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。其優（yōu）點是薄膜附著（zhe）力（lì）強，繞射性好，膜材（cái）廣泛等。多弧離子鍍與一般的離子鍍（dù）有著很（hěn）大（dà）的區別。多弧離子鍍（dù）采用的是（shì）弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極（jí）靶作為蒸發源（yuán），通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材（cái）蒸發，從（cóng）而在空間中形成等（děng）離子體，對基體進行沉積。

可以鍍製不鏽（xiù）鋼、鉻、鈦、鎢等（děng）多種金（jīn）屬膜，也可鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥（wò）式多弧離子鍍（dù）膜機主（zhǔ）要針對大麵積五金工（gōng）件鍍裝飾（shì）膜或者功能膜，適合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽（xiù）鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板（bǎn）材、管材（cái）上鍍（dù）製各類裝飾膜層及功能膜膜層的適合設備。