HL係列多弧離子真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:01:54 人氣:105767
HL係列多弧離子(zǐ)真空鍍膜機(jī)

工作原理

HL係列多(duō)弧(hú)離子真空鍍膜機工作原理是把真空弧光放電技術用於蒸發源的技術,即在真空環(huán)境下引燃蒸發源(陰極),與陽極之間形成(chéng)自持弧光(guāng)放電,既從陰極弧光輝點放出陰極(jí)物(wù)質的離子。由於電流局部的集中,產生的焦耳熱使陰極材料局部的爆發(fā)性地等離子化(huà),在工件偏壓的作(zuò)用下與反應氣體化合,而沉積在工件表麵上形(xíng)成被鍍的膜層。

應用範圍

1、鍾表行業(表帶、表殼、表盤等)
2、五金行業(yè)(衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等)
3、建(jiàn)築行業(不鏽鋼板、樓梯扶手、立柱等)
4、精密模具業(衝棒標準件模具、成型模具等)
5、工(gōng)具行業(鑽頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭)
6、汽車工業(活塞、活塞環、合金輪轂等)以及鋼筆、眼鏡等等,使其表麵得到既美觀又耐磨的功能性磨(mó)層。主要鍍製(zhì)的膜層有:離子金(jīn)、離子銀(yín)、氮化鈦膜、碳(tàn)化(huà)鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及(jí)RP鍍等超硬(yìng)功能性金屬膜,經離子鍍膜加工後的工件,可以提高硬度、耐磨(mó)度,抗腐蝕和美化的作用。 
7、有色金屬製(zhì)品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不需水鍍直接鍍製膜層。

產品特點(diǎn)

1、裝備低溫離子輔(fǔ)助源,無需加熱直接常溫冷鍍成膜,節能省電,提高產(chǎn)能。
2、沉積速(sù)率高,鍍膜速度快(kuài),覆蓋領域廣,可以在多(duō)種(zhǒng)產品上鍍製各類(lèi)裝飾膜或(huò)功能膜,是中、高端產品大量生產的適合設備。

技術參數表

HL係列多弧離子真空鍍膜機     
型號HL-600HL-800HL-1000HL-1200HL-1400HL-1500HL-1600
真空室尺寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT500擴(kuò)散泵(bèng)機組(zǔ)KT500擴散泵機組KT630擴散(sàn)泵機組雙KT630擴(kuò)散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係(xì)統專用多弧(hú)鍍膜電源+多功(gōng)能孿生磁環弧靶+柱形弧靶(bǎ)(可選配)
輔助鍍膜係統低溫離(lí)子輔助源(除工具鍍外無需加溫係(xì)統(tǒng))
充氣係統質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計(jì)質(zhì)量流量計質量流量計質量流(liú)量計
控製方式手動或全自動手動或全自動手動或(huò)全自動(dòng)手動或全自動手動或(huò)全自動手動或全自動手動或全自動
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真(zhēn)空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參(cān)考,具(jù)體均按客戶(hù)實際(jì)工藝要求設計訂做
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