GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機
日(rì)期:2016-01-13 10:18:51 人氣:26166
GSF高精密電子束蒸發光學真(zhēn)空鍍(dù)膜機的工作原理是(shì)將膜材放入水冷銅坩堝(guō)中,直接利用電子束加熱(rè),使膜材中的原子或分子從(cóng)表麵汽化逸出後入射(shè)到基片表麵凝結成(chéng)膜。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸(zhēng)發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快,製成的薄(báo)膜純度高。
光(guāng)學鍍膜設備(bèi)可鍍製層數較多的(de)短波(bō)通(tōng)、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜(mó)、帶通膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係(xì)鍍膜(mó),也能滿足如汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學鏡(jìng)頭、冷光杯等(děng)產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子槍和(hé)離子源及膜厚儀可(kě)鍍多種膜係,對金屬、氧化物、化(huà)合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍(dù)。
1)、高精密光學鍍膜機配(pèi)備有石英晶體膜(mó)厚儀(yí)、光(guāng)學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合(hé)實現對整個(gè)工作過(guò)程的全自動控製,可以實現無人值守,從而提高了工作效(xiào)率和保(bǎo)證產品質量的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為複雜的光學(xué)膜係製備提供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發分布(bù)穩定、性能可(kě)靠的E型電子槍,優化設計的蒸發源與工件架之間的位置關係,為精密膜係的實現調工了膜料蒸發(fā)分布方麵(miàn)的保障。
4)、平穩而(ér)高速旋(xuán)轉(zhuǎn)的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品光譜曲線更趨於一致。
5)、適用於(yú)光學(xué)領域行(háng)業,大規模工業生產高(gāo)端要求的廠商使用。
GSF高(gāo)精密電子束蒸發光(guāng)學真空鍍膜機 |
型號(hào) | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT630擴散泵(bèng)機組 | 雙(shuāng)KT630擴散泵機組(zǔ) | 雙KT630擴散(sàn)泵機組 | KT500擴散泵機組 | KT630擴散(sàn)泵(bèng)機組 | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜係(xì)統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔(fǔ)助離子專用(yòng)電源或霍(huò)爾離子源 |
充氣係統 | 壓強控製儀 |
控製方式 | 半自動(dòng)或全自動 |
膜厚監控係統 | 石英晶體膜(mó)厚監(jiān)控係統、光學膜厚監控係統 |
抽氣速(sù)率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注(zhù) | 以上設備參(cān)數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做 |