離子鍍是（shì）真空室中（zhōng），利用氣體放電或被蒸發物質部分離化（huà），在氣體離子或被（bèi）蒸發物（wù）質粒子轟（hōng）擊作用的同時，將蒸發物或反應（yīng）物沉積在基片上。離（lí）子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真（zhēn）空（kōng）蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍與一（yī）般的離（lí）子鍍有著很大的（de）區別。多弧離（lí）子鍍采（cǎi）用的是弧（hú）光放電，而並不是傳統離子鍍的（de）輝光（guāng）放電進行沉積（jī）。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶（bǎ）作為蒸（zhēng）發源，通過靶與陽（yáng）極殼體之間（jiān）的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形（xíng）成等離子（zǐ）體，對基體進行沉積。

可以鍍製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍製合（hé）金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離（lí）子鍍膜機主（zhǔ）要針對大麵積（jī）五金工件鍍（dù）裝飾膜或者功能膜，適（shì）合於在不（bú）鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼門等（děng）工件表麵鍍（dù）膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長（zhǎng））
2)、是在大型板材、管材上鍍製（zhì）各類裝飾膜層及功能膜膜層的適合設備（bèi）。