真（zhēn）空蒸發鍍膜是指（zhǐ）在（zài）真（zhēn）空條件（jiàn）下，通過蒸發源加（jiā）熱蒸發某種物質使其（qí）沉積在基板材（cái）料表麵（miàn）來獲（huò）得薄膜的一種技術。

被蒸發的物質被（bèi）稱為（wéi）蒸鍍材料。蒸（zhēng）發鍍膜（mó）最早由 M.法拉第在 1857年提（tí）出，經過一百多年的發展，現已成為主流（liú）鍍（dù）膜技術之（zhī）一。

真空蒸發鍍膜（mó）係統一般由三個部分組成：真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置（zhì）基板及給基板加熱裝置。

在真空中為了蒸發待沉積（jī）的材料，需要容器來支（zhī）撐或盛裝蒸發物，同時需要（yào）提（tí）供（gòng）蒸發熱使蒸發物達到足夠高的溫度以產生所需的蒸汽壓。

真空蒸發鍍膜技術具有簡（jiǎn）單便利、操作方便、成膜速度快等特點，是應用廣泛的（de）鍍膜技（jì）術，主要應用於光學羞羞视频_羞羞漫画_羞羞视频在线观看_羞羞漫画在线观看_羞羞漫画SSS_羞羞色漫_羞羞网站_羞羞漫画在线_羞羞小视频_羞羞影院_羞羞漫画免费观看_羞羞漫画官网器件、LED、平板顯示和半導體分立器的（de）鍍膜。

真空鍍膜材料按照化學成（chéng）分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發料，氧化物蒸發料，氟化物蒸發料等（děng）。