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真空蒸鍍之(zhī)工藝對比

作者(zhě): 來源: 日期(qī):2020-09-02 11:14:18 人氣:181467
1. 電阻蒸發源蒸鍍發  


A. 加熱:高(gāo)熔點金屬做成適當形狀蒸發源,電流(liú)通過直接加熱。 


B. 優點:結構(gòu)簡單、造價便宜(yí)、使用可靠


C. 缺點:所能(néng)到到(dào)的最高溫度有限,加熱器壽命較短


D. 適合:熔點不太高,尤其對膜層質量要求(qiú)不(bú)大高的大批量生產。 


 2. 電子束蒸發源蒸鍍發 


A. 蒸發材料放入冷水鉗鍋(guō)中,利用電子束加熱


B. 優(yōu)點:獲(huò)得更大能量密度,使高熔點材料蒸發且速度快,膜的純度較高(gāo),熱效率高。


C. 分類:環形(xíng)槍(qiāng),直槍,e型槍和空心陰極槍等幾種。


D. 適合:高熔點,純度要求高的材料。
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