磁控濺射鍍膜技（jì）術介紹
作者： 來源（yuán）： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：19062
磁（cí）控濺射鍍膜設備是一種具有結構（gòu）簡單、電器控製（zhì）穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄（báo）膜的性能具有重要影響。
磁控濺射鍍膜（mó）技（jì）術在陶瓷（cí）表麵裝飾中采用的工藝流程如下：
陶瓷片（piàn）→超聲（shēng）清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表麵檢驗→性能（néng）測（cè）試（shì）→包裝（zhuāng）、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用合適的靶（bǎ）材和濺射工藝，製出超硬的耐（nài）磨（mó）鍍層，可以實現材料的高硬度（dù）、高耐（nài）磨、高耐劃傷特性；
同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率材料，可以調配出任（rèn）意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時（shí）尚（shàng）、美觀的特點，而（ér）且不會屏蔽電磁（cí）信號。
磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工（gōng）藝，能夠實現對於陶瓷電子（zǐ）消費品的表麵裝飾處理，在保證陶瓷強度（dù）和（hé）硬度的同時，也能夠提（tí）升其美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個性化需求。
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