無論監控（kòng）儀（yí）精（jīng）度怎樣，它（tā）也（yě）隻能控製真空（kōng）室裏單點位置的膜厚（hòu），一般來講是工件（jiàn）架（jià）的中間位置。如果真空電鍍設備（bèi）此（cǐ）位置的膜厚不是絕對均勻的，那麽遠離（lí）中心位置（zhì）的（de）基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽（bì）罩能消除表現（xiàn）為長期的不均勻性，但有些膜（mó）厚度的變化是由（yóu）蒸發源的（de）不穩定或膜材的不同表（biǎo）現而引（yǐn）起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空（kōng）室的結構和蒸發源的恰當選擇可以（yǐ）使這些影響最小化。
　　在（zài）過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜係統製造廠家提供高性能的小規格、簡便型光學（xué）鍍膜係統，同時，用（yòng）戶對性能的要求不（bú）僅沒有降低，反而有所提高，特別（bié）是在薄（báo）膜密度和保證吸水後光譜變化最小化等方麵。
　　現在，係統的平均尺寸規格已經在降低，而應（yīng）用小規格設備進行光（guāng）學鍍膜的（de）生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選用現代化光學鍍膜係統的關鍵取決於對以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預（yù）期性能，基片的尺寸（cùn）大小和物理特性以及保證高度一（yī）致性工藝所必需的所有技術因素。

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