磁（cí）控（kòng）濺射技（jì）術自誕生以來，得到了較快的發展和較廣（guǎng）的應用，對其他鍍膜方法的發展產生了很大的影響。通過大量的實踐，浦羞羞视频_羞羞漫画_羞羞视频在线观看_羞羞漫画在线观看_羞羞漫画SSS_羞羞色漫_羞羞网站_羞羞漫画在线_羞羞小视频_羞羞影院_羞羞漫画免费观看_羞羞漫画官网真空總結出這種技（jì）術的優缺點，如下文所示。

　　優點：
　　1.沉積速率高，襯底溫升低，對薄（báo）膜損傷小；
　　2.對於大多數材料，隻（zhī）要能製造出靶材，就（jiù）可以實現濺射；
　　3.濺射得到的薄膜與基底結合良好；
　　4.濺射（shè）得到（dào）的薄膜純度較高，密度好，均勻性好；
　　5.結果表明，濺射工藝具有良好的重複性，在大麵積襯底上可獲得厚度均勻的薄膜；
　　6.可以（yǐ）準確控製塗層厚度，通過改變參數來控製（zhì）薄膜的粒徑；
　　7.不同的金屬、合金和氧化物可以混合，同時濺射（shè）在基體上；
　　8.易於工（gōng）業化。


　　但是磁控濺射也存（cún）在一些問題
　　1.該技術所使用的環形磁場迫使次級電子（zǐ）圍繞環形磁場跳躍。因此，由（yóu）環形磁場控（kòng）製的區域是等離子體密度較高的區域（yù）。在該技術中，我們可以看到濺射氣體（tǐ）氬在這一區域發出強烈的（de）淡藍色光芒，形成光暈。光暈下的靶是離（lí）子轟（hōng）擊比較嚴重（chóng）的部分，它會濺出一個圓形的溝槽。環形磁場（chǎng）是電子運動的（de）軌道，環形輝光和（hé）溝槽生動地表現了這一點。靶材的濺射槽一（yī）旦穿透靶材，整個靶材就會報廢，靶材（cái）利用率不（bú）高，一般（bān）低於40%；
　　2.等離子體不穩（wěn）定；
　　3.由於（yú）基本的磁通量均不能通過磁性（xìng）靶，所以在靶麵附（fù）近不可能產生外加磁場。

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