如何掌控真空鍍膜的均勻（yún）性
我（wǒ）們先來認（rèn）識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎（zěn）麽調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情（qíng）況與各真空泵的性能；
2、測試設備的（de）密（mì）封（fēng）性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達標（biāo），同時排除細小的（de）漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作（zuò）記錄，並有記錄（lù）人簽字以及有使用部門（mén）或工程部門的人確認簽字

怎麽（me）掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理的（de）不（bú）同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而（ér）擁有（yǒu）統一（yī）名稱（chēng）。所以對於不同原理的真空鍍膜，影（yǐng）響均勻性的因素（sù）也不盡相同。並且均（jun1）勻性（xìng）這個概（gài）念本身也會隨著鍍膜尺度（dù）和薄（báo）膜成分而有著不同的意（yì）義，下麵分別說一下：

均勻性主要體現在3方麵：
1、厚度上的均（jun1）勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍（dù）膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來（lái）說，真空鍍膜沒有任何（hé）障礙（ài）。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就（jiù）是說要（yào）實現10A甚至1A的表（biǎo）麵平整，是現在（zài）真空鍍膜中主要的技術含量與技（jì）術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是（shì）說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小（xiǎo）而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺（jiàn）控濺射鍍膜機（jī）過程不科學，那麽實際表麵（miàn）的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分（fèn），這也是真空鍍膜的技術含（hán）量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定（dìng）了薄膜是（shì）單晶，多晶，非晶（jīng），是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

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