如何掌控真空鍍膜的均勻性（xìng）
我們先來認識下怎麽調試（shì）鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用（yòng）鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程（chéng）中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測試設備的（de）密封性能，就是抽到極限後保壓1小時（shí）看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其（qí）他的性能，比如傳動、加熱（rè）、絕（jué）緣等（děng）等；
4、如果有工藝保證的話就（jiù）繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄，並有記錄人簽字以及有使用部門或工（gōng）程部門的人確認（rèn）簽字

怎麽掌控真空鍍膜（mó）的均勻（yún）性？
由於（yú）車燈鍍膜機原理的不同（tóng）分為很多種類，僅僅因（yīn）為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對於不同（tóng）原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。並且均勻性這個（gè）概念本身（shēn）也會隨著鍍（dù）膜（mó）尺度和薄（báo）膜成分而（ér）有著不同的意（yì）義，下麵分別說一下：

均勻性主要體現在3方麵（miàn）：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄（báo）膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真（zhēn）空鍍膜（mó）的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的（de）光學（xué）特性來說（shuō），真空鍍膜沒有任何障礙。但是（shì）如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量（liàng）與技術（shù）瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的（de）原子組分會由於尺度過小而很容（róng）易的產生不（bú）均（jun1）勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其（qí）他的比例，鍍的膜並（bìng）非是想要的膜的化學成分（fèn），這也是真（zhēn）空鍍膜的技術含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶（jīng），是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

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